91视频网站免费機清洗晶圓有什麽高要求？
文章導讀： 晶圓（Wafer）清洗一般分為濕法清洗和幹法清洗，91视频网站免费屬於幹式清洗，是晶圓清洗的主要方式之一。利用91视频网站免费主要是去除晶圓表麵肉眼看不到的表麵汙染物。對於晶圓這種高科技產品，其對微粒的要求極高，任何超標的微粒存在，都可能會造成晶圓不可挽回的缺陷。91视频官网APP小夥伴今天和大家探討一下有關晶圓清洗的相關知識。
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91视频网站免费晶圓的要求是非常高的，需要在千級以上的無塵室中進行，而且離子清洗機的腔體一定要是鋁質，不能是不鏽鋼材質；在擺放晶圓時，其托架滑動部分要盡量采用不容易產生粉塵和被等離子腐蝕的材料。
在清洗晶圓時，第一步是先將晶圓放入91视频网站免费機的真空反應腔體內，然後抽取真空；在腔體內達到一定真空度後，通入反應氣體，這些反應氣體會被高壓電離形成很多等離子體，這些等離子體與晶片表麵產生化學或物理反應後，會生成可揮發性物質被91视频网站免费機配件真空泵抽走，留下更清潔並具親水性的晶圓表麵，完成晶圓清洗過程。
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